众所周知,对于电子光学行业也就是生活中常见的半导体设备加工时用到的集成电路芯片、电子试剂用水、电子管涂敷配液用水、封装用水、液晶显示器屏面清洗用水、光学镜片清洗用水、微电子工业、微电子工业以及各种电子器件的生产用水对于水质的要求极高,本文一起来了解一下关于:电子光学用的edi超纯水设备。
电子光学用的edi超纯水设备采用的是电渗析技术和离子交换技术融为一体的连续电除盐技术,其工作的原理是通过阳、阴离子膜对阳、阴离子的选择透过作用以及离子交换树脂对水中离子的交换作用,实现水中离子的定向迁移,最后达到水的深度净化除盐。
离子交换树通过水电解是可以实现连续再生,在水电解的过程中产生的氢离子和氢氧根离子对装填树脂进行连续再生,而且在设备制水的整个过程中都是不需要加入任何的碱、酸化学药品再生。
电子光学用的edi超纯水设备的出水水质需达到:
1、企业的对于设备的出水水质要求;
2、电力装置的继电保护和自动装置设计规范(GB50062-1992);
3、工业与民用电力装置的接地设计规范(GBJ65-1983);
4、ZBG98020-90《水处理设备系列型谱》;
5、GB/T11446.1-1997国家电子级超纯水标准Ⅰ级≥18MΩ/CM (25℃)95%以上时间;
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